Rapidus 本月開始接收 EUV 曝光機,高層對 2 奈米量產有信心

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根據日本經濟新聞的報導,日本新創半導體製造商 Rapidus 的會長東哲郎,在本月 11 日於 SEMICON Japan 會議的開幕式上致詞時表示,對該企業的 2 奈米節點製程的試產線充滿信心


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報導指出,東哲郎表示,Rapidus 所需的 EUV 曝光設備將於本月開始交貨給工廠。另外,還有 200 餘台設備將陸續交貨。而所有的設備將在 2025 年 3 月底前到位,屆時將啟動實際生產 2 奈米節點的晶片試產線。屆時,客戶將在試產期間對其進行測試,確認生產出來的晶片是否可以使用。

報導指出,根據 Rapidus 的規劃,在完成試產後該企業目標到 2027 年 4 月開始正式量產 2 奈米節點製程的量產。之前,Rapidus 曾經表示,當前正與 40 多家潛在客戶進行洽談當中。

先前有消息指出,Rapidus 的技術合作夥伴 IBM 日前於 IEEE IEDM 2024 國際電子元件會議上,進一步展示了相互合作的多閾值電壓 GAA 電晶體成果,有望用於 Rapidus 的 2 奈米量產。IBM 表示,先進製程升級至 2 奈米節點後,電晶體結構由使用多年的 FinFET 鰭式場效應電晶體,轉成 GAAFET 全環繞柵極場效應電晶體,對製程改朝換代帶來新挑戰。如何達多閾值電壓(Multi Vt),讓晶片以較低電壓執行複雜計算是個挑戰。

另外,目前 Rapidus 的營運高度依賴日本政府的資助,整體資金中有近 99% 屬於政府的資金補貼。東哲郎對此表示,我們將盡快從政府的支持中獨立起起來,將員工工資提高到令人滿意的水準,並使獲利成為可能(新北市萬里區)。

(首圖來源:Rapidus)